Substrat MgO
Katrangan
Substrat tunggal MgO bisa digunakake kanggo nggawe peralatan komunikasi seluler sing dibutuhake kanggo saringan gelombang mikro superkonduktor suhu dhuwur lan piranti liyane.
Kita digunakake polishing mechanical kimia kang bisa disiapake kanggo tingkat atom kualitas dhuwur lumahing prodhuk, ukuran paling gedhe 2 "x 2" x0.5mm substrat kasedhiya.
Properti
| Metode Pertumbuhan | Leleh Arc Khusus |
| Struktur Kristal | Kubik |
| Crystallographic Lattice Konstanta | a=4,216Å |
| Kapadhetan (g/cm3） | 3.58 |
| Titik lebur (℃) | 2852 |
| Kemurnian Kristal | 99,95% |
| Konstanta dielektrik | 9.8 |
| Ekspansi Termal | 12.8ppm/℃ |
| Bidang Pecah | <100> |
| Transmisi optik | > 90%（200~400nm）,>98%（500~1000nm） |
| Prefeksi Kristal | Ora ana inklusi sing katon lan retak mikro, kurva goyang X-Ray kasedhiya |
Definisi Mgo Substrat
MgO, cendhak kanggo magnesium oksida, minangka substrat kristal tunggal sing umum digunakake ing bidang deposisi film tipis lan pertumbuhan epitaxial.Nduweni struktur kristal kubik lan kualitas kristal sing apik banget, saengga cocog kanggo ngembangake film tipis sing berkualitas tinggi.
Substrat MgO dikenal kanthi permukaan sing mulus, stabilitas kimia sing dhuwur, lan kapadhetan cacat sing sithik.Properti kasebut cocog kanggo aplikasi kayata piranti semikonduktor, media rekaman magnetik, lan piranti optoelektronik.
Ing deposisi film tipis, substrat MgO nyedhiyakake template kanggo tuwuhing macem-macem bahan kalebu logam, semikonduktor lan oksida.Orientasi kristal saka substrat MgO bisa dipilih kanthi ati-ati supaya cocog karo film epitaxial sing dikarepake, njamin keselarasan kristal sing dhuwur lan nyilikake mismatch kisi.
Kajaba iku, substrat MgO digunakake ing media rekaman magnetik amarga kemampuane nyedhiyakake struktur kristal sing apik banget.Iki ngidini alignment domain magnetik sing luwih efisien ing medium rekaman, sing ngasilake kinerja panyimpenan data sing luwih apik.
Kesimpulane, substrat tunggal MgO minangka substrat kristal berkualitas tinggi sing digunakake minangka cithakan kanggo pertumbuhan epitaxial film tipis ing macem-macem aplikasi, kalebu semikonduktor, optoelektronik, lan media rekaman magnetik.
